[헤럴드경제(대전)=이권형 기자] 특허청은 중국, 일본 특허청과 공동으로 16일 서울 한국과학기술회관(12층) SC 컨벤션센터에서 ‘한ㆍ중ㆍ일 디자인 포럼’을 개최했다.

올해로 8회차를 맞는 ‘한ㆍ중ㆍ일 디자인포럼’ 은 한국, 중국, 일본의 특허청 전문가들이 디자인보호와 관련된 주요 현안사항과 이에 대한 해결방안을 논의키 위해 결성됐으며 매년 3국이 순차적으로 개최하고 있다.
 

[사진설명=포럼에서 이영대 특허청 차장이 개회사를 하고 있는 모습.]

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